線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片）
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LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業和學術機構提供了一個低成本的納米光子學研究入口。基底可用于光學、光子學、生物學、化學、物理學（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學等領域。

產品型號：S2D-24B3-0808-150-P

更新時間：2025-02-20

廠商性質：經銷商

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產品分類

光學無源器件

激光反射鏡包層光剝離器(CPS) 色散補償模塊及跳線濾波片/濾光片光環形器其他光學無源器件光束整形變形鏡螺旋相位板光衰減器延遲線濾波器/標準具光纖耦合器非線性模塊/倍頻/波長轉換光隔離器/光旋轉器/旋轉鏡光柵微透鏡陣列色散勻化片偏振器件/偏振測量調制反射鏡晶體/棱鏡/窗片透鏡、準直器分光鏡分束合束器波分復用

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品牌	筱曉光子	價格區間	面議
組成要素	半導體激光器產品及設備	產地類別	進口
應用領域	電子/電池,電氣,綜合

線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片）

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LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業和學術機構提供了一個低成本的納米光子學研究入口。基底可用于光學、光子學、生物學、化學、物理學（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學等領域。如果需要，基板可以涂上金屬或介質涂層。大多數地表特征具有略微梯形的橫截面輪廓，具有直線平行的臺地和溝渠。晶格狀結構也可用。提供了許多特征尺寸和溝槽深度。基板的掃描電鏡圖像可以在裝運前拍攝，以驗證準確的輪廓。

產品特點

Nanopatterned Silicon Stamps

II-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.

Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service

線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片）

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